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TXRF(全反射X熒光)分析原理是基于X熒光能譜法，但與X射線能譜形成對(duì)比的是，傳統(tǒng)能譜采用原級(jí)X光束以45°角轟擊樣品，而TXRF采用毫弧度的臨界角(接近于零度角)入射。由于采用此種近于切線方向的入射角，原級(jí)X光束幾乎可以全部被反射，照射在樣品表面后，可以很大程度上避免樣品載體吸收光束和減小散射的發(fā)生，同時(shí)減小了載體的背景和噪聲，亦可減少樣品使用量。
TX2000 將全反射和傳統(tǒng)的能量色散集成在同一臺(tái)儀器上，創(chuàng)新光學(xué)編碼器的步進(jìn)電機(jī)，角度測(cè)量，軟件控制Mo/W靶可自由切換，采用高分辨、低背景的帕爾貼控溫硅漂移檢測(cè)器。
全反射X熒光光譜儀應(yīng)用范圍
TX2000 可檢測(cè)從鈉Na到钚Pu所有元素含量，可進(jìn)行痕量或超痕量元素分析(ppt或pg)，廣泛的應(yīng)用在環(huán)境分析(水、灰塵、沉積物、大氣懸浮物)，制藥分析(生物體液和組織樣品中的有害元素)，法醫(yī)學(xué)(微小證據(jù)分析)，化學(xué)純度分析(酸、堿、鹽、溶劑、水、超純?cè)噭?，油品分析(原油、輕質(zhì)油、燃料油)，染料分析(墨水、油漆、粉末)，半導(dǎo)體材料分析(揮發(fā)相分解)，核材料工業(yè)(放射性元素分析)。
全反射X熒光光譜儀主要特點(diǎn)
1、單內(nèi)標(biāo)校正，有效簡化了定量分析，無基體影響；
2、對(duì)于任何基體的樣品可單獨(dú)進(jìn)行校準(zhǔn)和定量分析；
3、多元素實(shí)時(shí)分析，可進(jìn)行痕量和超痕量分析；
4、不受樣品的類型和不同應(yīng)用需求影響；
5、*的液體或固體樣品的微量分析，分析所需樣品量??；
6、優(yōu)良的檢出限水平，元素分析范圍從鈉覆蓋到钚；
7、動(dòng)態(tài)線性范圍；
8、無需任何化學(xué)前處理，無記憶效應(yīng)；
9、非破壞性分析，運(yùn)行成本低廉。
根據(jù)分光系統(tǒng)的不同，XRF光譜儀主要有波長色散型(WDXRF)和能量色散型(EDXRF)兩種，二者結(jié)構(gòu)示意如下圖：
